新一代高精度温铯离子源FIB系统
运用曾获诺贝尔奖的激光冷却技术,zeroK Nanotech公司于2020年推出了基于温铯离子源(Cs+ LoTIS)的新一代高性能聚焦离子束系统——FIB: ZERO(Cs+ LoTIS)和相应的离子源升级配件——FIB:RETRO。zeroK Nanotech公司采用的极低温技术可以减少离子束中的随机运动,从而使FIB:ZERO中的离子束斑与传统离子源产生的束斑相比具有更高的亮度,更小的尺寸和更低的能量散失。同时,还可以产生更多的二次离子,获得更清晰的成像。
一系列测试表明,新一代的FIB: ZERO(Cs+ LoTIS)与传统的液态金属镓离子源(Ga+ LMIS) FIB 系统相比拥有更高的微纳加工精度,更清晰的成像对比度和景深。其加工速度与传统FIB基本一致,在低离子束流能量条件下有着更优异的表现。与氦(He+),氖(Ne+)离子源FIB相比,FIB: ZERO拥有高一个数量级的加工速度和对样品更少的加工损伤。
与通过Ga+离子源FIB制备的金属材料透射电镜样品相比,使用温Cs+离子源FIB制备的样品拥有更少的材料损伤,在随后的表征中可以展现出更多的细节。