实验室真空高温炉
设备简介
美国Thermal Technology高温炉适用于各种实验室应用及小规模生产。操作简单,性能稳定。高可定制温度达3000℃。
高温度可达3000°C,支持氩气、氧气、氮气、氢气等多种气氛,适用于各种强关联体系材料样品烧结
设备简介
美国Thermal Technology高温炉适用于各种实验室应用及小规模生产。操作简单,性能稳定。高可定制温度达3000℃。
高温度可达3000°C,支持氩气、氧气、氮气、氢气等多种气氛,适用于各种强关联体系材料样品烧结
设备特点:
* 丰富加热原件可供选择
* 高温度可达3000°C
* 可实现超高真空
* 可实现Ar/N2/O2/H2等多种气氛环境
应用领域:
美国Thermal Technology高温炉可用于粉末冶金、金属化合物、陶瓷、半导体、物理、化学、材料、光学等诸多领域的样品合成及热处理工艺。