新闻中心

新闻中心

News Center

当前位置: 首页 > 公司 > 新闻中心
新型纳米器件获重要成果,台式无掩膜直写光刻系统再登Nat. Commun.!

新型纳米器件获重要成果,台式无掩膜直写光刻系统再登Nat. Commun.!

2025-03-24

近日,复旦大学相关课题组在《Nature Communications》上发表了一项题为《Remote epitaxy and exfoliation of vanadium dioxide via sub-nanometer thick amorphous interlayer》的成果。该研究创新性地利用原子层沉积(ALD)技术制备了亚纳米厚的无定形Al2O3夹层,成功实现了氧化物纳米膜(如VO2)的远程外延生长,并利用MicroWriter ML3 实现了复杂图案的精确光刻。

查看详情