与传统的激光浮区法单晶生长系统相比，Quantum Design公司推出的新一代激光浮区法单晶炉系统具有以下技术优势：
► 采用全新五束激光设计，确保熔区能量分布更加均匀
► 更加科学的激光光斑优化方案，有助于降低晶体生长过程中的热应力
► 采用了独特的实时温度集成控制系统
RIKEN（CEMS）设计的五束激光发生器原型机实物
新一代激光浮区法单晶炉主要技术参数：
| 加热控制 | 加热类型 | 5束激光 |
| 激光功率 | 2KW、1.5KW两种规格可选 | |
| 熔区温度 | 2600℃ ~ 3000℃* | |
| 晶体生长控制 | 晶体生长大设计长度 | 150mm* |
| 晶体生长大设计直径 | 8mm* | |
| 晶体生长大速度/转速 | 300mm/hr; 100rpm | |
| 样品腔可施加大压力 | 10bar | |
| 样品腔气氛 | 多种气路（O2/Ar/混合气等）可供选配 | |
| 晶体生长监控 | 高清摄像头 | |
| 晶体生长控制 | PC控制 |
*具体取决于材料及实验条件
采用新一代激光浮区法单晶炉系统生长出的部分单晶体应用案例：
Ruby |
Dy2Ti2O7 |
BaTiO3 |
Sr2RuO4 |
SmB6 |
Ba2Co2Fe12O22 |
Y3Fe5O12 |
* 以上单晶图片由 Dr. Y. Kaneko (RIKEN CEMS) 提供
数据来源：
Kimura, K., Otake, Y. & Kimura, T. Visualizing rotation and reversal of the Néel vector through antiferromagnetic trichroism. Nat Commun 13, 697 (2022). https://doi.org/10.1038/s41467-022-28215-w
