高温高压光学浮区炉

高温高压光学浮区炉

产品简介


德国SciDre公司推出的高温高压光学浮区炉能够提供2200–3000℃以上的生长温度,晶体生长腔最大压力可达300bar,甚至10-5mbar的高真空。适用于生长各种超导材料单晶,介电和磁性材料单晶,氧化物及金属间化合物单晶等。

 


应用领域


适用于生长各种超导材料单晶,介电和磁性材料单晶,氧化物及金属间化合物单晶等。

可实现2600°C及以上高温(最高可达3000°C);多种压力规格可选,最高压力可达300bar;适用于多种磁性材料优质单晶生长

耐高温、耐高压、高真空、

高透光率、拆装简便的样品腔


由德国弗劳恩霍夫应用光

和精密工程研究所优化设计的高反射率镜面,

镜体位置可由高精度步进马达控制调节


光阑式光强控制器

更方便地调节熔区温度,延长灯泡寿命 


仿真化触屏控制软件

界面友好,操作简单


熔区测温选件专利测温技术

可实时监测加热区温度


多路独立气路控制选件

可控制N2、O2、Ar、空气等的流量和压力, 

并可对气体进行比例混合与熔区进行反应


气体除杂选件

可使高压氩气中的氧含量达到10-12ppm


退火选件

可对离开熔区的单晶棒提供

最高1100℃退火温度和高压氧环境



产品特点


► 竖直双镜设计,采用高照度短弧氙灯 

► 熔区温度:最高>3000℃ 

► 熔区压力:10-5 mbar 至 300 bar 

► 多路独立气体流量和气压控制 

► 丰富的可升级选件



主要技术参数


熔区温度:最高2000 - 3000℃以上 


熔区压力:最大10、50、100、150、300 bar可选   


熔区真空:1*10-2 mbar或 1*10-5 mbar可选   


熔区气氛:Ar、O2、N2等可选   


气体流量:0.25 – 1 L/min流量可控   


氙灯功率:3kW至15kW可选   


料棒台尺寸:6.8mm或9.8mm可选


拉伸速率:0.1-50mm/h   


调节速率:0.6 mm/s   


拉伸尺寸:130mm,150mm,195mm可选   


旋转速率:0-70rpm   


用电功率:400V三相 63A 50Hz  

 

主机尺寸:330cm*163cm*92cm (不同规格略有差异)   


Quantum Design International

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