四电弧提拉法单晶炉

四电弧提拉法单晶炉


日本Techno Search Corp.公司生产的四电弧提拉法单晶生长炉(型号:TCA4-6),采用电弧放电的高温材料合成方法,非常适合生长化学性质活跃但熔点高的金属间化合物,包括含有稀土元素(或者金属铀等)的多元金属间化合物,例如UGe2, UPt3, V3Si, URu2Si2, RE2Co17 , CePd2Al3, REFe10Ti2 合金单晶以及Nd2Fe14B, URhAl, UNiAl and RENi5等合金单晶。生长过程中,原料放在旋转的铜坩埚中,四个电极同时放电形成高温从而熔化原料,通过精密控制的拉晶装置使用Czochralski方法将熔化的原料拉成单晶。样品室的真空度可达10-6托,并充入惰性气体氩气。


采用电弧作为加热源,适用于各种金属、合金磁性材料单晶生长

产品特点:


*  采用四电弧法加热

*  可实现2000~3000°C高温

*  适用于金属间化合物材料


基本参数:


样品腔:

可实现高温:2000~3000°C*

气氛:Ar

腔室压强范围:10-4 Pa~1Atm

材料:不锈钢

冷却:水冷


提拉杆:

提拉生长速度:3-38mm/hr

转动速度:1-15rpm

行程:150mm


电弧电流:

可持续工作电流可高达:75A(可调) 

短时间工作电流可高达:150A(可调) 

晶体生长电极数量:4个

吸气电极数量:1个


坩埚:

转动速度:1-10rpm

行程:40mm(手动控制)

*温度取决于工艺条件和材料


工作原理图


真空系统


摄像头实时观察晶体生长状态


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