微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD
微波等离子化学气相沉积技术(MPCVD), 通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。
MPCVD是制备大尺寸单晶金刚石有效手段之一。德国iplas公司专利的 CYRANNUS® 等离子技术解决了传统等离子技术的局限,可以在10mbar到室压范围内激发高稳定度的等离子团,最大限度的减少了因气流、气压、气体成分、电压等因素波动引起的等离子体状态的变化,从而确保单晶生长的持续性,为合成大尺寸单晶金刚石提供有力保证。
应用领域
▪ 大尺寸宝石级单晶钻石
▪ 高取向度金刚石晶体
▪ 纳米结晶金刚石
▪ 碳纳米管/类金刚石碳(DLC)
▪ MPCVD同样适用于其它硬质材料如Al2O3,c-BN的薄膜沉积和晶体合成。