超高温高速退火炉
日本Advance Riko公司推出的桌面式超高温高速退火炉以大功率点聚焦加热以及超高反射效率可以在10s内将15mm×15mm的试样加热到1800℃，可对SiC以及其它高熔点材料进行退火处理。
应用领域
• SiC氧化膜的生成和激活；
• 半导体开发与研究；
• 玻璃基板、陶瓷、复合材料等的热处理；
• 作为热处理炉对高熔点材料进行热处理；
• 陶瓷材料的热冲击测试。
以大功率点聚焦的红外加热以及超高的反射效率可以在10秒内将样品加热到1800℃，并可直接淬火；可应用于玻璃基板、陶瓷、复合材料等的热处理。
