小型台式无掩膜光刻机- Microwriter ML3

小型台式无掩膜光刻机- Microwriter ML3


传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板 的方法,克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。

Microwriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。


应用领域

小型台式无掩膜光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。

600 nm图形分辨率,方便的套刻(对准)操作,满足各类微电子器件及微纳测试结构的图案化工艺需求

产品特点


Focus Lock自动对焦功能 
Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率。



直写前预检查
软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确。


标记物自动识别

点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。



光学轮廓仪 

Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向最高精度100 nm,方便快捷。


简单的直写软件

MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。



Clewin 掩模图形设计软件

+  可以读取多种图形设计文件

    (DXF, CIF, GDSII, 等)

+  可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式

+  书写范围只由基片尺寸决定



基本参数


Microwriter  ML3基本型增强型旗舰型
最大样品尺寸155×155×7mm155×155×7mm230×230×15mm
最大直写面积149mm x 149mm149mm x 149mm195mm x 195mm
曝光光源405 nm LED 1.5W405 nm LED 1.5W385 nm LED 适用于SU-8 
(365+405nm双光源可选)
直写分辨率1μm1μm and 5 μm0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
直写速度20mm2/min @ 1μm20mm2/min @ 1μm25mm2/min @ 0.6μm
50mm2/min @ 1μm
120mm2/min @ 5μm100mm2/min @ 2μm
180mm2/min @ 5μm
对准显微镜镜头x10x3 and x10 自动切换x3, x5, x10, x20 自动切换
多层套刻精度±1μm±1μm±0.5μm
最小栅格精度200nm200nm100nm
样品台最小步长100nm100nm50nm
光学轮廓Z分辨率无(可升级)300nm100nm
样品表面自动对焦
灰度直写(255级)
自动晶片检查工具无(可升级)
温控样品腔室无 (可升级)无 (可升级)
虚拟模板校准工具无(可升级)无(可升级)
气动减震光学平台无(可升级)无(可升级)


直写分辨率1μm


直写分辨率0.6μm




微电极制备


光刻胶上的图形 


 Au电极 (SEM) 

   

Au电极(SEM) 


设计图


光刻胶上的图形


放大图的显微结构





微结构制备








微流通道制备



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