高精度光学浮区法单晶炉

高精度光学浮区法单晶炉

    

Quantum Design Japan公司推出的高温光学浮区法单晶炉,采用镀金双面镜、高反射曲面设计,最高温度可达2100℃-2200℃,系统采用高效冷却节能设计(不需要额外冷却系统),稳定的电源输出保证了灯丝的恒定加热功率......


应用领域:

■  高温超导体

■  介电和磁性材料

■  金属间化合物

■  半导体/光学晶体/宝石

采用高效双瓣反射镜,内置冷却系统,集成度高,操作方便,适用于多种超导材料优质单晶生长

产品特点:


■  占地空间小,操作简单,易于上手,独立支撑设计

■  镀金双面高效反射镜,加热效率更高

■  可实现最高温度2150°C

■  稳定的电源

■  内置闭循环冷却系统,无需外部水冷装置

■  采用商业化标准卤素灯




光学浮区法(垂直区熔法)也可以说是一种垂直的区熔法。在生长装置中,在生长的晶体和多晶棒之间有一段靠光学聚焦加热的熔区,该熔区有表面张力所支持。熔区自上而下或自下而上移动,以完成结晶过程。

浮区法的主要优点是不需要坩埚,也由于加热不受坩埚熔点限制,可以生长熔点极高材料。生长出的晶体沿轴向有较小的组分不均匀性在生长过程中容易观察等。浮区法晶体生长过程中,熔区的稳定是靠表面张力与重力的平衡来保持,因此,材料要有较大的表面张力和较小的熔态密度。浮区法对加热技术和机械传动装置的要求都比较严格。


 

镜面系统 




Fig. 2. Photographs of (a) a wafer with a growth rate of 5 mm/h in pure oxygen. (b) An as-grown (Nb + ln) co-doped TiO2 crystal with growth rate of 5 mm/h in air and the crystal wafer cut perpendicular to the growth direction.



参考文献:

“High quality(InNb)0.1Ti0.9O2 single crystal grown using optical floating zone method“. Journal of Crystal Growth 446(2016)74–78.


1. High quality(InNb)0.1Ti0.9O2 single crystal grown using optical floating zone method, Journal of Crystal Growth 446(2016)74–78. 

2. 光学浮区法生长掺铟氧化镓单晶及其性能, 硅酸盐学报 Vol. 45,No. 4,April,2017,P548-P552. 

3. Ultralow-temperature heat transport in the quantum spin liquid candidate Ca10Cr7O28 with a bilayer kagome lattice, PHYSICAL REVIEW B 97, 104413 (2018).

国内合作用户,排名不分先后


北京大学武汉大学
中科院物理所吉林大学
中科院硅酸盐所哈尔滨工业大学
上海大学浙江师范大学
南京大学浙江大学
东南大学南方科技大学
中科院宁波材料所曲靖师范学院
西北工业大学