高精度光学浮区法单晶炉

高精度光学浮区法单晶炉

    

Quantum Design Japan公司推出的高温光学浮区法单晶炉,采用镀金双面镜(避免四镜加热带来的多温区点)、高反射曲面设计,最高温度可达2100℃-2200℃,系统采用高效冷却节能设计(不需要额外冷却系统),稳定的电源输出保证了灯丝的恒定加热功率......


应用领域:

■  高温超导体

■  介电和磁性材料

■  金属间化合物

■  半导体/光学晶体/宝石

采用高效双瓣反射镜,内置冷却系统,集成度高,操作方便,适用于多种超导材料优质单晶生长

产品特点:


■  方便轻巧,独立支撑设计

■  镀金双面高效反射镜,避免多温区加热

■  2150°高温区

■  稳定的电源

■  无需水冷循环冷却

■  灯丝采用标准现货供应





 

镜面系统 


光学浮区法(垂直区熔法)也可以说是一种垂直的区熔法。在生长装置中,在生长的晶体和多晶棒之间有一段靠光学聚焦加热的熔区,该熔区有表面张力所支持。熔区自上而下或自下而上移动,以完成结晶过程。

浮区法的主要优点是不需要坩埚,也由于加热不受坩埚熔点限制,可以生长熔点极高材料。生长出的晶体沿轴向有较小的组分不均匀性在生长过程中容易观察等。浮区法晶体生长过程中,熔区的稳定是靠表面张力与重力的平衡来保持,因此,材料要有较大的表面张力和较小的熔态密度。浮区法对加热技术和机械传动装置的要求都比较严格。



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