美国BlueWave公司是半导体设备、材料生产商，提供多种薄膜制备系统，包括：
• 脉冲激光沉积(PLD)
• 电子束蒸发
• 热蒸发
• 反应溅射
• 热丝化学气相沉积(HFCVD)
• 热化学气相沉积系统(TCVD)
这些系统是理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。此外，BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。
性能稳定的薄膜沉积系统，可提供PLD、磁控溅射、蒸发镀膜等多种薄膜制备方案，多靶台系统，适用于制备强关联体系的各种复合薄膜
1、脉冲激光沉积系统-PLD
PLD产品特点：
• 超高真空不锈钢腔体 • 可集成热蒸发源或溅射源 • 可旋转的耐氧化基片加热台 • 流量计或针阀精确控制气体流量 • 标准真空计 | • 干泵与分子泵 • 可选配不锈钢快速进样室 • 可选配基片-靶材距离自动控制系统 • 可制备：金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格等。 |
|
|
|
|
2、物理气相沉积系统（Physical Vapor Deposition Plus）
产品特点： • 超高真空不锈钢腔体 • 独立衬底加热，可旋转 • 多量程气体流量控制器 • 标准气压计 • 机械、分子、冷凝真空泵 • 衬底和源距离可控 • 可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜 |
|
3、热化学气相沉积系统-TCVD
| 产品特点： • 高温石英管反应器设计 • 温度范围：室温到1100度 • 多路气体精确控制 • 标准气压计 • 易于操作 | • 可配机械泵实现低压TCVD • 可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜 • 液体前驱体喷头 • 2英寸超大完美温度均匀区 |
4、热丝化学气相沉积系统-HFCVD
产品特点： • 水冷不锈钢超高真空腔 • 热丝易安装、更换 • 4个不同量程气体控制器 • 标准气压计 • 衬底与热丝距离可调节 • 2英寸衬底加热、可旋转 • 完美制备金刚石和石墨烯 |
|
