脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统
脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统
脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统

脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统


BlueWave是一家著名的美国半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统,包括:

•  脉冲激光沉积(PLD)

•  电子束蒸发

•  热蒸发

•  反应溅射

•  热丝化学气相沉积(HFCVD)

•  热化学气相沉积系统(TCVD)


这些系统是最理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料Blue Wave还提供相关系统配件,例如基片加热装置、原位监测工具。此外,BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层,例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。


简单实用的PLD系统、磁控溅射系统,可集成多种薄膜制备方案是磁性复合薄膜材料制备的上佳之选

 1、脉冲激光沉积系统


产品特点:


•  超高真空不锈钢腔体

•  可集成热蒸发源或溅射源

•  可旋转的耐氧化基片加热台

•  流量计或针阀精确控制气体流量

•  标准真空计

•  干泵与分子泵

•  可选配不锈钢快速进样室

•  可选配基片-靶材距离自动控制系统

•  是金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格的最佳设备





 

 

 



2、物理气相沉积系统(Physical Vapor Deposition Plus)




产品特点:

•  超高真空不锈钢腔体
•  电子束、热蒸发、脉冲激光沉积可集成

•  独立衬底加热,可旋转

•  多量程气体流量控制器



•  标准气压计

•  机械、分子、冷凝真空泵
•  可选不锈钢快速进样室

•  衬底和源距离可控

•  可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜



3、热化学气相沉积系统(TCVD)


 

产品特点:

•  高温石英管反应器设计

•  温度范围:室温到1100度

•  多路气体精确控制

•  标准气压计

•  易于操作

•  可配机械泵实现低压TCVD
•  可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜

•  液体前驱体喷头

•  2英寸超大完美温度均匀区



4、热丝化学气相沉积系统(HFCVD)

产品特点:


•  水冷不锈钢超高真空腔

•  热丝易安装、更换 

•  4个不同量程气体控制器

•  标准气压计

•  衬底与热丝距离可调节

•  2英寸衬底加热、可旋转 

•  完美制备金刚石和石墨烯



5、薄膜/涂层制备服务

产品特点:

•  为您制备您所需的薄膜或涂层,避免您在设备或制备过程上的投资。

•  快速实现您的科研设想

•  庞大的备选材料库,选择最适合您的材料

•  多种薄膜制备手段可供选择,包括:PLD、电子束蒸发、热蒸发、Hot Filament CVD、MOCVD


无论您需要绝缘涂层、透明涂层、金属薄膜或顶电极我们广阔的材料库均能满足您的需求。我们还为您提供特殊的涂层定制服务。

我们有超过20年的镀膜经验,我们已与多所大学与国家实验室合作,成为镀膜服务行业的领导者。 



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