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技术线上论坛|5月14日《浮区法及四电弧法高质量单晶生长新技术进展及应用介绍》

发布日期:2020-05-09

[报告简介]


浮区法单晶生长技术通过固-液过程实现单晶生长,由于其晶体生长过程中无坩埚污染、生长状态便于观察、可获得大尺寸优质单晶等诸多优点,目前已被广泛应用于各种超导材料、磁性材料、铁电材料、热电材料、光学晶体等诸多研究领域。尤其近年来德国ScIDre公司新发展的高温高压光学浮区法单晶生长系统可实现3000°C高温及300bar高压;同时,加利福尼亚大学的Stephen D. Wilson等人近期与ScIDre公司合作搭建了高设计压力高达1000bar的浮区法单晶生长系统。另外,Quantum Design 日本也已相继推出了新一代卤素灯浮区炉和激光浮区炉,前者采用了全新的高效反射镜设计方案,而后者则采用了独特的温度梯度优化方案及先进的温控技术;日本GES公司推出的四电弧法单晶炉系统也在高熔点金属间化合物晶体生长领域发挥着愈来愈大的作用。随着科学技术的不断进步和发展,各种极端单晶生长条件也不断刷新记录,我们相信随着浮区法和四电弧法单晶生长技术的不断突破,今后也会有更多的优质单晶材料服务于广大科技工作者。

 

本报告将简述目前市面上常见的几种浮区法(以加热源不同可分为:卤素灯、氙灯、激光等三种类型)和四电弧法晶体生长技术的基本原理,并将重点介绍一些近几年国内外单晶炉用户已发表的文献,文献中的单晶材料包括:β-Ga2O3、Ca10Cr7O28、 (InNb)0.1Ti0.9O2、Ruby、SmB6、Ba2Co2Fe12O22、Nd2Mo2O7、SrRuO3、La4Ni3O10 and Pr4Ni3O10、Li(Mn,Fe)PO4、GdTiO3、Nd2Zr2O7、Li2CuO2、Hf0.86Y0.13Eu0.01O1.93、Ce0.98La0.02Ir3Si2、Mn3Sn等,希望通过这些案例的介绍能对大家今后的工作提供些启发。


卤素灯浮区炉激光浮区炉氙灯浮区炉四电弧法单晶炉


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[主讲人介绍]


李正才 博士

李正才博士,博士毕业于中国科学院物理研究所,德国马克斯•普朗克固体物理研究所博士后,专业为凝聚态物理,科研背景为晶体生长、结构和物性表征等相关领域,2015年加入Quantum Design中国子公司后,担任产品经理职务,主要负责各种晶体生长相关产品及X射线残余应力分析仪的技术与应用工作。


[报告时间]


开始  2020年05月14日  14:00

结束  2020年05月14日  15:00

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