国内首台MicroWriter ML无掩模激光直写光刻系统落户厦门大学
发布日期：2019-12-09
2012年8月28-31日，经过为期4天的安装和用户培训后，国内台MicroWriter ML无掩模激光直写光刻系统在厦门大学完成验收，本次安装，由MicroWriter ML无掩模激光直写光刻系统的设计者、剑桥大学卡文迪许实验室Prof.. Russell Cowburn (英国科学院院士)亲自完成。
系统的性能、人性化的操作设计，使得用户在经过短时间的培训后，就可以独立操作并得到满意结果，受到用户的高度评价。
MicroWriter MLTM是一款新设计的激光直写光刻系统，不仅具有无掩模直写系统的灵活性，还拥有高书写速度和低成本的特点。Turbo模式下多个激光头可以在电脑控制下进行平行工作对基片上无需高分辨率的部分进行高速书写曝光，之后自动切换高分辨激光，并对需要高分辨的细节进行加工。这样的设计在加工速度和分辨率之间取得了好的平衡，并通过软件改变曝光图案设计，完整地保证了其灵活性。
