脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统
脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统
脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统

脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统


美国BlueWave公司是半导体设备、材料生产商,提供多种薄膜制备系统,包括:

•  脉冲激光沉积(PLD)

•  电子束蒸发

•  热蒸发

•  反应溅射

•  热丝化学气相沉积(HFCVD)

•  热化学气相沉积系统(TCVD)


这些系统是理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料Blue Wave提供相关系统配件,例如基片加热装置、原位监测工具。此外,BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层,例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。


系统稳定性好,可制备高质量的超导薄膜,可在PLD系统上集成蒸发源,对于复合薄膜生长或电极制备具有的优势

 1、脉冲激光沉积系统-PLD


PLD产品特点:

•  超高真空不锈钢腔体

•  可集成热蒸发源或溅射源

•  可旋转的耐氧化基片加热台

•  流量计或针阀精确控制气体流量

•  标准真空计

•  干泵与分子泵

•  可选配不锈钢快速进样室

•  可选配基片-靶材距离自动控制系统

•  可制备:金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格等。



 

 

 



2、物理气相沉积系统(Physical Vapor Deposition Plus)


产品特点:

•  超高真空不锈钢腔体
•  电子束、热蒸发、脉冲激光沉积可集成

•  独立衬底加热,可旋转

•  多量程气体流量控制器

•  标准气压计

•  机械、分子、冷凝真空泵
•  可选不锈钢快速进样室

•  衬底和源距离可控

•  可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜




3、热化学气相沉积系统-TCVD


 


产品特点:

•  高温石英管反应器设计

•  温度范围:室温到1100度

•  多路气体精确控制

•  标准气压计

•  易于操作

•  可配机械泵实现低压TCVD

•  可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜

•  液体前驱体喷头

•  2英寸超大温度均匀区



4、热丝化学气相沉积系统-HFCVD


产品特点:

•  水冷不锈钢超高真空腔

•  热丝易安装、更换 

•  4个不同量程气体控制器

•  标准气压计

•  衬底与热丝距离可调节

•  2英寸衬底加热、可旋转 

•  制备金刚石和石墨烯



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