PPMS温控系统



         PPMS系统双流阻温控示意图


主要技术:

1、液氦通道双流阻技术
2、带有两个夹层的样品室设计
3、温度控制算法
4、样品托设计

   一般的低温实验设备都采用一个温控仪来控制实验中所需要的温度环境。这种温控方法容易随着外界环境的改变而产生波动,例如当样品所处环境的压强、冷却介质的多少,冷却气体的流量等发生波动时,温控仪施加的热量需要一定的时间才能使温度重新稳定。而且温控仪测量的仅是样品附近的一点的温度,真正样品的温度是否准确难以确定,例如在进行磁测量时,温度计无法和样品直接接触。

    为了匹配PPMS系统整体的测量精度,Quantum Design公司放弃了传统的使用温控仪控温的方法,采用了Quantum Design公司自己开发的技术:双流阻控温技术。该温控技术对比传统的温控仪,有着无可比拟的优势,当然整个温控系统也复杂很多,具体表现在:

1、样品腔是密封的,样品处于低真空环境

2、样品周围的腔壁采用导热良好的铜制造,使整个样品处于一个恒温区域

3、样品腔内集成三个温度计便于进行高精度温度控制

4、采用分段控温:100K-400K使用Pt温度计监测,1.9K-80K采用Cernox 温度计控温,80K-100K采用两个温度计值加权平均

5、通过液氦的沸点4.2K时可以平滑渡过

6、无限长时间稳定在任何温度点(1.9K-400K)

温度测量参数:

温度范围:1.9K-400K

稳定度:±0.2% @T<10K;±0.02% @T>10K

测温精度:在016T磁场下达到±1%

温控模式:快速到达  非过冲  扫描


Quantum Design International

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