石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度，而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前微纳加工中常用的等离子刻蚀系统功率较大、难以精细控制的问题，Moorfield Nanotechnology与曼彻斯特大学诺奖得主Andre Geim课题组联合研发了台式超精准二维材料等离子软刻蚀系统- nanoETCH。与传统的刻蚀方案相比，nanoETCH在石墨烯和2D材料的关键加工中表现出了很高的性能。该系统对输出功率的分辨率可到达毫瓦量级，对二维材料可实现超精准的逐层刻蚀，也可实现对二维材料进行层内缺陷制造，还可对石墨基材等进行表面处理。该系统性能已经在剑桥大学石墨烯中心、曼彻斯特大学、英国国家石墨烯中心、西班牙光子科学研究所等诸多用户实验室得到验证。
该系统可刻蚀3英寸或更大尺寸的样品，样品放置在专门设计的样品台上，低功率毫瓦级精细控制的射频单元提供高精度的刻蚀功率，分子泵高真空系统可确保样品免受污染。
应用方向举例：
石墨基材的处理：表面处理，更有利于剥离出大面积的石墨烯
微纳刻蚀：去除石墨烯，对其他区域无损伤
缺陷加工：在石墨烯层中制造点缺陷
主要特点：
◎ 软刻蚀功率：<30W 高精度射频源
◎ MFC-流量计控制
◎ 3英寸、6英寸样品台
◎ 全自动触屏操作系统
◎ 设定、保存多个刻蚀程序
◎ 可连接电脑记录数据
◎ 本底真空<5×10-7 mbar
◎ 易于维护
◎ 完备的安全性设计
◎ 兼容超净室
◎ 稳定的性能表现
■ 石墨烯中量子点的制造
石墨烯以其优异的电子性能在各种应用领域表现出了巨大潜力，引起了人们个广泛兴趣。该工作中作者制备的量子点器件完全由石墨烯软刻蚀技术雕刻而成。在大尺寸(>100纳米)时，它们的行为和传统的单电子晶体管一样。对于小于100纳米的更小量子点，表现出了明显的量子约束效应。
石墨烯的“场效应管”与电子特性。采用Moorfield软刻蚀技术
参考文献：L. A. Ponomarenko, et al. Science, 2008, 320(5874), 356-358
■ 石墨烯分子传感器
该工作中作者利用软刻蚀技术将石墨烯制备成了微型传感器，此传感器对于表面吸附分子的灵敏度非常高，具有很好的应用前景。
石墨烯微型气体分子探测器
参考文献：Schedin, et al. Nat. Mater. 2007, 6(9), 652-655
nanoETCH微纳加工制备的石墨烯微型传感器
U. Sassi, et al. Nat. Commun. 2017,8,14311
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