脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统
美国BlueWave公司是半导体设备、材料生产商，提供多种薄膜制备系统，包括：
• 脉冲激光沉积(PLD)
• 电子束蒸发
• 热蒸发
• 反应溅射
• 热丝化学气相沉积(HFCVD)
• 热化学气相沉积系统(TCVD)
这些系统是理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。此外，BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。
性能稳定的薄膜沉积系统，可提供PLD、磁控溅射、蒸发镀膜等多种薄膜制备方案，是半导体薄膜制备的优选设备#系统稳定性好，可制备高质量的超导薄膜，可在PLD系统上集成蒸发源，对于复合薄膜生长或电极制备具有的优势#简单实用的PLD系统、磁控溅射系统，可集成多种薄膜制备方案是磁性复合薄膜材料制备的上佳之选#性能稳定的薄膜沉积系统，可提供PLD、磁控溅射、蒸发镀膜等多种薄膜制备方案，是多铁性薄膜制备的优选设备#特有的石墨烯生长装置可以制备高质量的石墨烯薄膜。可提供PLD、磁控溅射、蒸发镀膜等多种薄膜制备方案，是二维薄膜材料制备的优选设备#简单实用的PLD系统、可提供PLD、磁控溅射、蒸发镀膜等多种薄膜制备方案，是各种纳米薄膜材料制备的上佳之选#性能稳定的薄膜沉积系统，可提供PLD、磁控溅射、蒸发镀膜等多种薄膜制备方案，多靶台系统，适用于制备强关联体系的各种复合薄膜#
