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Johnsen UltraVac超高真空系列产品      
 
  
 
Johnsen UltraVac超高真空系列产品

                       ——汇集超高真空领域的最新技术

 
  加拿大Johnsen Ultravac Inc.(JUV)公司成立于1961,以其优异的性能与表现在全球范围内赢得了良好的声誉,被誉为超高真空领域设备制造商中的“奥德赛”!多年来,JUV一直保持着极高标准,成功地将用户的要求转化为高级的科研设备,同时也为科研、商业及工业等领域输出了大量的精密超高真空仪器。
 

 
 
  JUV公司的核心是设计并制造超高真空腔体和系统,并已经成为全球超高真空产品的顶级供应商!从粒子加速线组件到超高真空线性传输设备、XYZ操作台和真空系统,都沉淀和蕴含了JUV公司丰富的经验和精确的设计加工能力。无论是用户定制产品,还是标准化的模块产品,JUV公司始终将了解客户的需要、回应他们提出的苛刻要求放在首位!
  目前,JUV公司的用户已经遍及了北美、欧洲和亚洲众多国家的科研机构和企业的实验室。从客户提出的概念到设计和加工,JUV一直引领着尖端超高真空系统、组件和设备的发展方向!
 

 
粒子加速线组件
 
  JUV提供了适用范围广泛的前端和例子加速线组件,可以满足不同的应用,包括:
 
真空系统
  从概念的提出,到设计、加工和安装,Johnsen Ultravac公司的专业技术人员能根据用户的具体要求,设计制造出满足任何应用的系统。多年来积累的经验使Johnsen Ultravac为用户制造出配置复杂的腔体、快速进样室、样品传送装置、旋转台、升起/摆动机械装置、自动电子控制的水/气分配系统等。
  在制造过程中,Johnsen Ultravac始终采用高纯度的材料,严格质量控制,使得系统的真空度好于10-11 torr。这些系统包括有:
♦  混合等离子体喷射系统(Hybrid Plasma Spray System)
♦  电子束蒸发系统(E-Beam Evaporation System)
♦  电子回旋共振/电感耦合等离子体系统(ECR/ICP System)
♦  激光沉积系统(Laser Deposition)
♦  溅射系统(Sputtering System)
♦  分子束外延真空系统(MBE Vacuum System)
 
1、混合等离子体喷射系统(Hybrid Plasma Spray System)

  该系统由不锈钢支架和不锈钢双层水冷腔体组成,配备有:等离子体炬(Plasma Torch)、射频电源产生器(RF Power Generator)、配套的线路、衬底控制台、泵、离子规、过程控制系统等。
  射频或直流电感耦合等离子炬(RF/DC-ICP Torch)安装在腔体的顶端。等离子体通过混合气体,经电弧点燃而产生。
•  沉积源一般为粉末或者液体,利用等离子体喷射引入到墙体中。当使用液体的时候,会形成纳米结构的镀层或沉积层,且成分变化较大。
•  衬底的操作是利用6轴样品台进行的,样品可以进行高速旋转,加热的温度可达600℃。
•  混合气体由一个气体配给系统提供,它可以同时混合四种气体,并配有流速控制单元、MFC 电源、LCD显示器、输气净化阀门和各种不锈钢气路接口。
•  整个腔体由一个干泵和旋转增压泵组成,并配备了水冷前级吸收装置、空气过滤器、节流阀等。真空度由电容压力表和Pirani/压力传感器测得。
•  计算机中加载的PLC/PC真空过程自动控制系统可以对泵气和等离子体沉积过程进行监控,操作简单。在生长过程中,过程保护锁可以保证用户在使用过程中,不会出现意外情况。
 
  该系统采用模块化理念进行设计与生产的,完全能够满足用户日后的升级需要。
  
 2、电子束蒸发系统(E-Beam Evaporation System)

  该系统采用2-真空腔设计,一键式操作,同时配有多个电子束蒸发源。存放有衬底的旋转木马位于主真空腔上方的快速进样室中,通过阀门与主真空腔隔开。在对快速进样室抽完真空后,打开阀门,即可将衬底对准电子束蒸发源。蒸镀完成后,关闭阀门,将快速进样室放气,即可取出样品,而主真空腔仍然保持较好的真空。
 
 特点:
♦  自动抽气和放气;
♦  系统状态液晶显示面板;
♦  从大气进入超高真空仅用时30分钟;
♦  马达驱动的多样品旋转木马;
♦  直径3 inch样品的均匀度好于±0.25%;
♦  设备结构紧凑,操作方便,维护简单。
 
 
 3、电子回旋共振/电感耦合等离子体系统(ECR/ICP System)

  ECR/ICP系统可以同时对三个直径为2’’的样品进行处理,或者对一个5’’样品进行处理。主真空腔利用分子泵进行抽气,真空腔好于1×10-10mbar,可选配钛升华泵。该系统配有19’’电子单元安放支架和电源配给面板。
 
4、激光沉积系统(Laser Deposition)

  该系统包括一个外径为10’’的圆柱形真空腔体,配有:分子泵、真空阀门、两个样品操作台、带开闭器的高纯蓝宝石观察窗、靶架(Target Holder)和衬底架。用户可以任意选择六个靶中的其中一个,将其沉积到直径为2-3’’的圆形衬底上。在激光沉积过程中,衬底可以进行加热。衬底通过快速进样室引入到主真空腔中。系统的真空度好于2×10-10Torr。
 
5、溅射系统(Sputtering System)

  该系统主要包括:真空泵、RF电源、配套的线路、磁控管、气路、虹膜阀、真空规、可加热的样品架和放置电子单元所需的19’’支架。在圆柱形真空腔上装有三个、间隔为120度的2’’或3’’RF磁控管。用户可以任意将三个溅射源组合,并沉积到衬底上。
  该系统为全金属结构,并用金属线将顶端和底部的法兰密封,真空腔的尺寸为18’O. D. × 18’’ Height。 在底部金属线密封法兰的中心处,有一个外径为10’’的Conflat法兰,上面配有三个外径为2’’的RF磁控管,三个电磁阀、气路端口和水冷污染屏蔽罩。溅射枪能在4-5’’的靶衬底上,以100Å/min Fe速率进行沉积,样品的均匀度好于±2%。

6、分子束外延真空系统(MBE Vacuum System)
 
  分子外延系统包括了一个直径为24’’的多端口真空腔,内部配有LN2屏蔽罩,最多可以装载8个蒸发源。腔体的端口可以选配:观察窗、阀门、蒸发速率监控装置、RGA、RHEED、样品台、泵、真空规、传样杆等等。真空腔放置在一个不锈钢支架上,配有19’’电子单元安放支架和电源配给面板。真空腔体内部配备的加热器可以是整个腔体加热到250℃。
 

 
XYZ样品操作台(XYZ Manipulators)

  Johnsen Ultravac XYZ样品台接口法兰的尺寸为外径2.75’’(波纹管内径1.5’’) ~ 外径13.25’’(波纹管内径10’’)。样品台坚固耐用,可以承受很大的重量,特别适用于表面化学和物理应用、MBE和操作与定位多样品等领域。
 

操作台
操作台-8axis
 
  XY样品台可以作为独立的单元或者与线性移动装置联合使用。XYZ样品台使用不锈钢焊接,可以在10-10Torr真空中使用。针对不同使用条件的要求,我们可以提供:
 
X&Y移动范围
±0.50’’---±4.00’’
可加热温度
1200℃
波纹管内径1.39’’---12.00’’LN制冷温度-160℃
基座法兰外径2.75’’---14.00’’ LHe制冷温度
10K
极坐标旋转360度衬底基片尺寸
≤300mm
方位角旋转±180度
承载重量
225kg (4000系列产品)
倾斜±30度 
 
  

 
线性移动装置
 
  我们提供了应用到各种条件下的线性移动装置
 
1000型系列产品
该系列特别适用于快速进样室、样品制备室、放置台和样品处理台,它很容易地改装成多样品的托架。1000型产品采用聚四氟乙烯轴承支撑的齿条-小齿轮传动装置,齿条的材料为不锈钢经电子抛光加工而成。连接终端可自由调节,灵活性强。 
 2000型系列产品2000型线性移动装置采用挤压铝材料经阳极化抛光制成,可以烘烤到250℃。波纹管法兰的尺寸为2.75’’、3.38’’和4.50’’。Z方向上的移动采用了不锈钢ACME螺丝-铜螺母驱动,并由不锈钢导杆支撑,每旋转一周,Z方向上将移动5mm。用户可以选配气压缸组件来驱动Z方向上的移动。
2000型可以用于样品的转移和处理过程中,具有加热和冷却、马达驱动、旋转平台和XY平台等功能与配置,且用户可以自由选择垂直或水平安放。
3000&4000型
系列产品
该系列产品采用高等级的铝材料经阳极化抛光而制成的,可以烘烤到250℃。坚实的结构使得该产品具有最强的承重能力,并可垂直或水平安放。Z方向上的位置的准确性为0.1mm,每旋转一周,Z方向上将移动1mm。
 


超高真空腔
 
  Johnsen Ultravac公司的超高真空腔有很多种配置,可以提供适合用户各种特殊要求和性能的腔体。
  Johnsen Ultravac公司生产的超高真空腔体性能优异。在腔体的制造过程中,JUV的工程师们特别重视消除任何可能的漏气现象,腔体的真空度都能好于10-11Torr。每一个端口都经过精心的校准,确保它们能够准确的装载各种配件。在进行切削加工时,特别注意避免腔体遭到各种材料的污染;在完成切削后,所有的部分会被仔细清洗,并在超净间中进行焊接;最后,在完成端口位置的再一次确认后,超高真空腔体才会进行最后的清理与包装。
 
真空腔主要技术参数:

• 腔体漏率小于2×10-10atm cc/sec
• 0.5%端口对准
• 玻璃球抛光
• 7步清洗过程
可选:
• MU金属内层作为磁屏蔽罩
• 不锈钢内层,用于沉积系统
• 电镀抛光
• 水冷
• 低温保持器隔热罩
 

 
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