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脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统(NEW)      
 
 

薄膜制备领导者
 

BlueWave是一家著名的美国半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统,包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是最理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件,例如基片加热装置、原位监测工具。此外,BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层,例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。

1、脉冲激光沉积系统

产品特点:
电抛光多空不锈钢超高真空腔体
•可集成热蒸发源或溅射源
•可旋转的耐氧化基片加热台
•流量计或针阀精确控制气体流量
•标准真空计
•干泵与涡轮真空泵
•可选配不锈钢快速进样室
•可选配基片-靶材距离自动控制系统
•是金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格的最佳设备
 
2、物理气相沉积系统(Physical Vapor Deposition Plus
产品特点
超高真空不锈钢腔体

电子束、热蒸发、脉冲激光沉积可集成
独立衬底加热,可旋转
多量程气体流量控制器
标准气压计
机械、分子、冷凝真空泵
可选不锈钢快速进样室
衬底和源距离可控
可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜

   
3、热化学气相沉积系统(TCVD)
产品特点
高温石英管反应器设计
温度范围:室温到1100度
多路气体精确控制
标准气压计
易于操作
可配机械泵实现低压TCVD
可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜
液体前驱体喷头
2英寸超大完美温度均匀区
 

4、热丝化学气相沉积系统(HFCVD)
产品特点:
水冷不锈钢超高真空腔
热丝易安装、更换 
4个不同量程气体控制器
标准气压计
衬底与热丝距离可调节
•2英寸衬底加热、可旋转 
完美制备金刚石和石墨烯 
 


   
5、薄膜/涂层制备服务
产品特点 
为您制备您所需的薄膜或涂层,避免您在设备或制备过程上的投资。
快速实现您的科研设想
庞大的备选材料库,选择最适合您的材料
多种薄膜制备手段可供选择,包括:PLD、电子束蒸发、热蒸发、Hot Filament CVD、MOCVD
无论您需要绝缘涂层、透明涂层、金属薄膜或顶电极我们广阔的材料库均能满足您的需求。我们还为您提供特殊的涂层定制服务。
我们有超过20年的镀膜经验,我们已与多所大学与国家实验室合作,成为镀膜服务行业的领导者。
 

 


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