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小型台式无掩模光刻机      
 
小型台式无掩膜光刻系统
 

    小型台式无掩膜光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。

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    传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板 的方法,克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图 案。

    Microwriter ML 3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌 面。

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产品特点

 
产品参数

Microwriter ML3 基本型 增强型 旗舰型
 最大样品尺寸 155×155×7mm 155×155×7mm 230×230×15mm
 最大直写面积 149mm x 149mm 149mm x 149mm 195mm x 195mm
 曝光光源 405 nm LED 1.5W 405 nm LED 1.5W 385 nm LED 适用于SU-8
(365+405nm双光源可选)
 直写分辨率 1μm 1μm and 5 μm 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
 直写速度 20mm2/min @ 1μm 20mm2/min @ 1μm
120mm2/min @ 5μm
25mm2/min @ 0.6μm
50mm2/min @ 1μm
100mm2/min @ 2μm
180mm2/min @ 5μm
 对准显微镜镜头 x10 x3 and x10 自动切换 x3, x5, x10, x20 自动切换
 多层套刻精度 ±1μm ±1μm ±0.5μm
 最小栅格精度 200nm 200nm 100nm
 样品台最小步长 100nm 100nm 50nm
 光学轮廓Z分辨率 无(可升级) 300nm 100nm
 样品表面自动对焦
 灰度直写(255级)
 自动晶片检查工具 无(可升级)
 温控样品腔室 无 (可升级) 无 (可升级)
 虚拟模板校准工具 无(可升级) 无(可升级)
 气动减震光学平台 无(可升级) 无(可升级)


应用案例
 
微电极制备
       光刻胶上的图形                                 Au电极 (SEM)                                   Au电极(SEM)
     
       设计图                                                 光刻胶上的图 形                                        放大图的显微结构
      
 
微结构制备
   
 
   
 
微流通道制备
   
 
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 产品资料下载: Microwriter ML3
 
相关产品链接:
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