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高精度光学浮区法单晶炉 (NEW ! ! !)      
 

Quantum Design  公司近日推出新款高温光学浮区法单晶炉,这款高性能单晶炉采用镀金双面镜(避免四镜加热带来的多温区点)、高反射曲面设计,最高温度可达2100-2200摄氏度,系统采用高效冷却节能设计(不需要额外冷却系统),稳定的电源输出保证了灯丝的恒定加热功率. …
技术参数:
   方便轻巧,独立支撑设计
   镀金双面高效反射镜,避免多温区加热
    2150°高温区
    稳定的电源
    无需水冷循环冷却
    灯丝采用标准现货供应
长晶体:
    高温超导体
    介电和磁性材料
    金属间化合物
    半导体/光子晶体/宝石
     
  
光学浮区法(垂直区熔法)也可以说是一种垂直的区熔法。在生长装置中,在生长的晶体和多晶棒之间有一段靠光学聚焦加热的熔区,该熔区有表面张力所支持。熔区自上而下或自下而上移动,以完成结晶过程。
浮区法的主要优点是不需要坩埚,也由于加热不受坩埚熔点限制,可以生长熔点极高材料。生长出的晶体沿轴向有较小的组分不均匀性,在生长过程中容易观察等。浮区法晶体生长过程中,熔区的稳定是靠表面张力与重力的平衡来保持,因此,材料要有较大的表面张力和较小的熔态密度。浮区法对加热技术和机械传动装置的要求都比较严格。
 
 
技术优势:
 
 
 
 
 
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